野村nomura-nms 超純水用新型過氧化氫（H2）監(jiān)測儀 NOXiEMON®半導體中作用

更新時間：2026-01-12

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Nomura Micro Science（野村微電子科技）開發(fā)的NOXiEMON®是不使用化學試劑的超純水中過氧化氫在線監(jiān)測儀，專為半導體、制藥等高純工藝領(lǐng)域設(shè)計。核心創(chuàng)新技術(shù)采用N-Lite® DEP（酵素擔持樹脂），通過固定化酶反應將H?O?直接分解為O?，再通過高精度DO計測量生成的氧氣濃度，間接換算H?O?含量。這一革命性設(shè)計摒棄了傳統(tǒng)化學法需要的試劑添加系統(tǒng)

標準技術(shù)規(guī)格

| 參數(shù)項 | 規(guī)格值

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| 測量原理 | N-Lite® DEP酶反應 + DO溶解氧檢測

| 測量范圍 | 0.3～60 ppb

| 檢測下限 | 0.3 ppb（DO波動≤0.1ppb時）

| 測量上限 | 60 ppb

| 精度取決于DO計精度（通常±0.1ppb）

| 尺寸 | 600×600×1200 mm（W×D×H）

| 重量 | 約100 kg

| 自動功能 | 自診斷、自動沖洗啟動

產(chǎn)品核心優(yōu)勢? 無試劑消耗：無需添加任何化學試劑，大幅降低運行成本和環(huán)境負擔? 維護簡便：無需更換試劑管路、泵閥等易損件? 抗干擾能力強：可準確測量TOC-UV系統(tǒng)產(chǎn)生的H?O?，不受其他物質(zhì)干擾? 智能自診斷：自動判定N-Lite® DEP樹脂劣化狀態(tài)，預警更換時機? 超純水專用：專為電阻率≥18MΩ·cm的超純水系統(tǒng)設(shè)計典型應用場景半導體制造：監(jiān)測TOC-UV氧化后殘留H?O?濃度晶圓清洗：控制清洗液中H?O?濃度在ppb級超純水系統(tǒng)：在線驗證UV氧化效率制藥用水：無菌制劑用水的痕量氧化劑監(jiān)控

與傳統(tǒng)技術(shù)對比

| 對比項 | NOXiEMON®酶法 | 傳統(tǒng)化學法（如鈦絡合物法） |

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| 試劑消耗 | 無 | 需持續(xù)添加化學試劑 |

| 維護頻率 | 低（僅更換樹脂） | 高（試劑管路、泵閥） |

| 速度 | 實時響應 | 2-10分鐘響應 |

| 交叉污染 | 無 | 試劑可能引入污染 |

| 運行成本 | 低 | 高（試劑+廢液處理） |

| 環(huán)境友好性| 優(yōu)（無廢液） | 差（產(chǎn)生化學廢液） |

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